用途
・半導体のワイヤボンディング・ダイボンディング性向上
・変調器などのデバイスケースへハンダ性と耐食性向上のため
・レーザーミラーやセラミックパッケージの熱変色防止の為
・半導体のワイヤボンディング・ダイボンディング性向上
・変調器などのデバイスケースへハンダ性と耐食性向上のため
・レーザーミラーやセラミックパッケージの熱変色防止の為
・99.99%の高純度なので高い導通性
・ボンディング性能を高め、熱・圧力・超音波で金線やアルミと接合可能に。
・特殊な添加剤により析出形態を安定させる事で、厚付が可能。
・優美なレモンイエロー色をしており、装飾分野へも応用可能。
特性 | 能力 |
---|---|
金純度 | 金99.99% |
標準膜厚 | 0.1μ~5.0μ |
耐食性 |
膜厚の影響が大きいが金自体は腐食しない。 |
接触抵抗 | 0.3mΩ |
硬度(ヌープ) | 50~80 |
電気抵抗値 | 0.95×10-²(Ω/cm²)三菱ケミカルoresta-EPMCP-T360) |
ハンダ濡れ性 | 良好 |
耐熱性 | 200℃24時間で変退色無し |
金純度 | 金99.99% |
軟質金
1.5
クロム
1.0
ニッケル
0.7
膜厚0.1μの場合です
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